2024-07-23

스크린 노출 기계는 노출 시간을 최적화하기 위해 여러 기술과 기술을 사용하여 스크린 인쇄에서 정확하고 일관된 결과를 보장합니다. 사용되는 몇 가지 주요 기술과 기술은 다음과 같습니다. 광원 선택: UV 램프: 대부분의 스크린 노광기는 UV 램프를 광원으로 사용합니다. 이 램프는 화면의 유제를 경화하는 데 필수적인 자외선(UV) 빛을 방출합니다. LED UV 기술: 고급 기계는 LED UV 기술을 활용하여 파장과 강도를 정밀하게 제어할 수 있습니다. LED UV 램프는 기존 UV 램프에 비해 에너지 효율이 더 높고 수명도 더 깁니다. 광도 제어: 스크린 노광기 UV 광선 노출 강도를 제어하는 ​​메커니즘을 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 과다 노출이나 노출 부족 없이 에멀젼을 적절하게 경화하는 데 필요한 최적의 UV 방사선량이 스크린에 수신됩니다. 노출 장치 디자인: 노출 장치의 디자인은 노출 시간을 최적화하는 데 중요한 역할을 합니다. 반사경, 디퓨저, 진공베드 등의 구성요소가 포함됩니다. 반사판 및 반사 표면: 노광 장치 내부의 반사판은 UV 광선을 화면에 균일하게 전달하여 노광 효율성을 극대화합니다. 디퓨저: 디퓨저는 UV 광선을 화면 전체 표면에 고르게 분산시켜 일관된 노출을 보장합니다. 진공 베드: 일부 기계는 진공 베드를 사용하여 노출 중에 필름 포지티브나 예술 작품에 스크린을 단단히 고정시켜 보다 효율적인 노출을 위해 광원과 유제 사이의 거리를 최소화합니다. 노출 계산 및 타이밍: 최신 화면 노출 기계에는 타이머와 노출 계산기가 내장되어 있는 경우가 많습니다. 운영자는 스크린 메쉬 수, 유제 유형, 원하는 스텐실 두께 등의 변수를 입력할 수 있습니다. 이 기계는 이러한 변수를 기반으로 최적의 노출 시간을 계산하여 각 스크린이 적절한 스텐실 형성에 필요한 정확한 양의 UV 광선을 받도록 보장합니다. 균일성 테스트 및 교정: 교정 프로세스는 노광 장치가 시간이 지나도 일관되고 정확하게 작동하도록 보장합니다. 여기에는 빛의 강도, 화면 전체의 노출 균일성 및 필요에 따른 보정 조정에 대한 주기적인 테스트가 포함됩니다. 모니터링 및 피드백 시스템: 일부 고급 기계에는 UV 강도 및 노출 균일성과 같은 요소를 실시간으로 모니터링하는 센서 및 피드백 시스템이 장착되어 있습니다. 작업자는 이러한 시스템의 피드백을 기반으로 설정을 조정하여 노출 시간을 최적화하고 고품질 결과를 유지할 수 있습니다. 이러한 기술과 기술을 사용함으로써 스크린 노광 기계는 노출 시간을 효과적으로 최적화하여 스크린 인쇄 공정에서 안정적이고 반복 가능한 결과를 보장할 수 있습니다.